
                        
簡要描述:平面刻線衍射光柵(50x50x9.5mm)制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇,通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜??虅澠叫卸群涂叹€的等距需要漫長的時間進(jìn)行調(diào)整,可能需要花費(fèi)幾天進(jìn)行設(shè)置并在實(shí)際刻劃之前進(jìn)行測試??虅潤C(jī)必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回,并按預(yù)定量對基底進(jìn)行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控制。
產(chǎn)品品牌:其他品牌
廠商性質(zhì):代理商
更新時間:2023-01-04
訪  問  量:1099詳細(xì)介紹
| 品牌 | 其他品牌 | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 | 
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 其他 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子/電池,綜合 | 
平面刻線衍射光柵(50x50x9.5mm)

平面刻線衍射光柵(50x50x9.5mm)
制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇,通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜。刻劃平行度和刻線的等距需要漫長的時間進(jìn)行調(diào)整,可能需要花費(fèi)幾天進(jìn)行設(shè)置并在實(shí)際刻劃之前進(jìn)行測試??虅潤C(jī)必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回,并按預(yù)定量對基底進(jìn)行刻劃??叹€的平行度和位移必須精控制。

75l/mm @10.6μm

100l/mm @10.6μm

150l/mm @10.6μm

300l/mm @300nm

300l/mm @500nm

300l/mm @1000nm

300l/mm @3.5μm

450l/mm @3.1μm

600l/mm @250nm

600l/mm @300nm

600l/mm @400nm

600l/mm @500nm

600l/mm @750nm

600l/mm @1000nm

600l/mm @1250nm

600l/mm @1600nm

1200l/mm @250nm

1200l/mm @300nm

1200l/mm @400nm

1200l/mm @500nm

1200l/mm @750nm

1200l/mm @1000nm

1800l/mm @500nm
特征
材料:  | 浮法玻璃  | 
表面光潔度:  | 60-400  | 
尺寸誤cha:  | ±0.5 mm  | 
厚度公cha:  | ±0.5mm  | 
效率:  | 60%~80% @閃耀波長  | 
有效孔徑:  | 90%  | 
損傷閾值:  | 350mJ/cm2@200ns脈沖激光 40W/cm2(CW)連續(xù)激光  | 
產(chǎn)品編號  | 產(chǎn)品名稱  | 尺寸  | 刻線數(shù)  | 閃耀波長  | 閃耀角  | 
378521  | 刻線式光柵 50x50x9.5mm 300Lines/mm 浮法玻璃  | 50x50x9.5mm  | 300Lines/mm  | 300nm  | 2°34'  | 
378522  | 刻線式光柵 50x50x9.5mm 300Lines/mm 浮法玻璃  | 50x50x9.5mm  | 300Lines/mm  | 500nm  | 4°18  | 
378523  | 刻線式光柵 50x50x9.5mm 300Lines/mm 浮法玻璃  | 50x50x9.5mm  | 300Lines/mm  | 1000nm  | 8°36'  | 
378531  | 刻線式光柵 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃  | 50x50x9.5mm  | 600Lines/mm  | 300nm  | 5°9'  | 
378532  | 刻線式光柵 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃  | 50x50x9.5mm  | 600Lines/mm  | 400nm  | 6°53'  | 
378543  | 刻線式光柵 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃  | 50x50x9.5mm  | 600Lines/mm  | 500nm  | 8°37'  | 
378544  | 刻線式光柵 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃  | 50x50x9.5mm  | 600Lines/mm  | 750nm  | 13°0'  | 
378545  | 刻線式光柵 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃  | 50x50x9.5mm  | 600Lines/mm  | 1000nm  | 17°27'  | 
378546  | 刻線式光柵 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃  | 50x50x9.5mm  | 600Lines/mm  | 1250nm  | 22°1'  | 
378547  | 刻線式光柵 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃  | 50x50x9.5mm  | 600Lines/mm  | 1600nm  | 28°41'  | 
378554  | 刻線式光柵 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃  | 50x50x9.5mm  | 1200Lines/mm  | 250nm  | 8°37  | 
378555  | 刻線式光柵 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃  | 50x50x9.5mm  | 1200Lines/mm  | 300nm  | 10°22'  | 
378556  | 刻線式光柵 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃  | 50x50x9.5mm  | 1200Lines/mm  | 400nm  | 13°53'  | 
378565  | 刻線式光柵 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃  | 50x50x9.5mm  | 1200Lines/mm  | 500nm  | 17°27'  | 
378566  | 刻線式光柵 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃  | 50x50x9.5mm  | 1200Lines/mm  | 750nm  | 26°44'  | 
378567  | 刻線式光柵 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃  | 50x50x9.5mm  | 1200Lines/mm  | 1000nm  | 36°52'  | 
378568  | 刻線式光柵 50x50x9.5mm 1800Lines/mm 浮法玻璃  | 50x50x9.5mm  | 1800Lines/mm  | 500nm  | 26°44'  | 
制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇,通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜。刻劃平行度和刻線的等距需要漫長的時間進(jìn)行調(diào)整,可能需要花費(fèi)幾天進(jìn)行設(shè)置并在實(shí)際刻劃之前進(jìn)行測試??虅潤C(jī)必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回,并按預(yù)定量對基底進(jìn)行刻劃??叹€的平行度和位移必須精控制。制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇,通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜。刻劃平行度和刻線的等距需要漫長的時間進(jìn)行調(diào)整,可能需要花費(fèi)幾天進(jìn)行設(shè)置并在實(shí)際刻劃之前進(jìn)行測試??虅潤C(jī)必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回,并按預(yù)定量對基底進(jìn)行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控制。制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇,通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜??虅澠叫卸群涂叹€的等距需要漫長的時間進(jìn)行調(diào)整,可能需要花費(fèi)幾天進(jìn)行設(shè)置并在實(shí)際刻劃之前進(jìn)行測試??虅潤C(jī)必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回,并按預(yù)定量對基底進(jìn)行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控制。
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